Aug 31, 2009

インカローズの美しい色

インカローズは、パワーの中でも好きな石である。淡いピンクと白しましたです、まるでミルフィーユのように折り重なっているインカローズはまさにインカのバラのように美しい。比較的大きな石で取れるので、ペンダントのもいいかもしれない。ペンダントは宝石類が多いが、これらの宝石のペンダントが多ければ多いほどいいと思う。
ぼんしてくださいw作っている人が話していたのですが盆栽は、縮図を作成することと、自分の分身のようでもあるといいます。確かに、人間の身体は小宇宙であり、盆栽は、枝の中にどのように自然の姿を導入するのかですから、盆栽の構造は、内側の深さを競う場合、親グループに入ることです。盆栽は宇宙そのものですね。
郵便事業株式会社は11月8日、eBay ジャパンと国際Eコマース市場の拡大に向けて相互に協力することで合意したと発表した。

これにより、日本郵便が提供するオンラインシッピングの機能eBayの通販サイトでも利用することが可能になり、受発注情報をもとに、EMSと国際書留郵便物のラベルを発行できるサービスが提供される。

郵便物の送達状況の確認、過去に発送した郵便物の履歴もeBayの通販サイト上で確認することが可能になる。

日本郵便はオンラインシッピングサービスを利用して、現在より低廉な料金の送達状況も確認ができる国際郵便サービスの開発を予定している。

[マイコミジャーナル]

ヴイエムウェアは8日、仮想化・クラウド環境の管理を簡素化・自動化する新たな管理製品群の国内出荷を開始することを発表した。多くの管理製品を3つのスイートに整理・統合することで、一元的な管理を可能にし、ライセンス体系も簡素化。米VMwareが10月に概要を発表しているが、国内向けに日本語環境への対応を強化している。

インフラの統合管理を行う「VMware vCenter Operations Management スイート」は、キャパシティ管理、構成管理、課金管理、またアプリケーションの依存関係を可視化するツールが統合され、クラウドインフラ全体の状態を把握することができる。

「vFabric Application Management スイート」は、クラウドへのアプリケーションのリリース/展開の標準化・自動化するツール、またアプリケーションのパフォーマンスをプロアクティブに管理するツールにより動的なアプリケーション管理を実現する。

「VMware IT Business Managementスイート」は、幅広い財務データへのアクセスを実現するほか、ITの資本、運用費用、および保守費用の状況を明確にすることが可能となる。

各製品の発売予定日は下記の通り。

(笠井美史乃)

[マイコミジャーナル]

ジャストシステムは8日、Androidスマートフォン向け日本語入力システム「ATOK for Android」の最新版(ver.1.1.0)の提供を開始した。価格は1,500円で、Androidマーケットからダウンロードできる。

最新版では、「ポケベル(ページャー)」の入力方法と同様の「2タッチ入力」を追加。ATOKの入力環境の同期が行えるサービス「ATOK Sync アドバンス」にも対応した。

さらに、月額300円で「ATOK for Windows」「ATOK for Mac」「ATOK for Android」の各種ATOKを合計10台までインストールできる「ATOK Passport」にも対応する。これにより、WindowsとMac、Android、iOS間で、使い慣れた入力環境を同期して利用することができる。

[マイコミジャーナル]

【関連記事】
月額300円でOSを問わずに10台まで使える「ATOK Passport」


東北大学(東北大) 電気通信研究所の吹留博一助教、末光眞希教授および尾辻泰一教授の研究グループは、Si基板の面方位による、Si基板上に成長させた次世代電子材料グラフェン(GOS)の多機能化(金属性・半導体の切り分け)に成功し、GOSを用いたトランジスタの集積化も可能であること示した。現在の半導体集積技術を用いてグラフェンの多機能化・集積可能性を示したことは、グラフェンの多機能集積回路への道を拓いたということを意味する。同成果は、日本原子力研究開発機(JAEA)量子ビーム応用研究部門の寺岡有殿 研究主幹、同吉越章隆 研究副主幹、高輝度光科学研究センター(JASRI)利用研究促進部門の木下豊彦 主席研究員、同 小嗣真人 研究員および同 大河内拓雄 研究員との共同研究によるもので、応用物理学会の学会誌「Applied Physics Express」(オンライン版)に掲載される。

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炭素の二次元層状物質であるグラフェンは、Siの100倍以上のキャリア移動度を有し、かつ熱的・化学的にも安定な物質であるため、Siに置き換わる次世代デバイス材料の1つとして、実用化に向けた開発が進められている。

研究グループでは、これまで既存Siデバイスの製造技術を最大限に活用することを目指し、Si基板上に単結晶SiC薄膜を成長させ、このSiC薄膜表面にグラフェンを形成するグラフェン・オン・シリコン(GOS)の開発を進めてきている。

すでにGOSを用いた電解効果トランジスタ(FET)の開発なども進めており、同トランジスタは2000cm2/Vs以上という、Si半導体と比較して2倍のキャリア移動度を持つことが確認されている。GOS技術は半導体プロセスをそのまま利用できるため、実用化が期待されているが、単にキャリア移動度が高いというだけではなかなかSiデバイスを置き換えることはできないことから、研究グループでもGOSでしか発現されない技術などの開発を行ってきていた。

今回の研究では、これはSPring-8においてJAEA専用ビームラインBL23SU設置のリアルタイム光電子分光装置および理研ビームラインBL17SUせっちの 分光型光電子・低速電子顕微鏡を用いることで、GOS技術に用いられるSi基板の面方位を選択することで、グラフェンの表面・界面構造およびバンド構造が制御可能であることを明らかにした。

これまで高価なSiC結晶基板の面方位を選択することで、グラフェンのバンド構造制御が可能であることは知られていたが、安価で大面積なSi基板上で同様の制御が可能になることが明らかとなったのは今回の研究が初めてだという。

この成果はグラフェンのデバイス特性(キャリア移動度、バンドギャップ)をSi基板上で自在に制御することが可能になることを意味するもので、デバイスの応用用途として電子や光に適したグラフェンの製造が今後できるようになる可能性を示すものだという。

さらに研究グループでは、比較的大面積なGOS(7mm×40mm以上)を作成し、それを用いて複数のFETを試作して評価した結果、それらの素子特性のバラつきが少ないことを確認した。トランジスタサイズは数μm程度で、集積度は低いものの、この結果はGOSを用いた集積回路の作成が将来的に可能であることを示すものだと研究グループでは説明している。

これらの成果を踏まえると、半導体プロセス技術を用いることで、1枚のSi基板上にさまざまな面方位のSi面を容易に作り出すことも可能となるため、将来的にはSi基板上に三次元的に作りこまれた多機能なグラフェン集積素子(3D-GOS)の実現も期待できるという。

最新のデバイスシミュレーションでは、チャネル長が20nmまで縮小されたグラフェン集積回路がSi集積回路よりも1桁高速の論理動作をする可能性が示されており、今回の成果を踏まえて、今後、GOS技術をさらに進展させていくことで、そうした集積回路が実現できる可能性が出てきたこととなるため、研究グループではまだ多くの研究課題が残されているものの、GOS集積回路がSi集積回路の代替物以上のものになる可能性が出てきたとしている。

[マイコミジャーナル]


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